トプティカフォトニクス株式会社 780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』
- 最終更新日:2022-11-15 16:36:04.0
- 印刷用ページ
基本情報780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』
ナノリソグラフィや半導体の微量分析では、解像度と安定性が卓越した結果を生み出す鍵になります。
トプティカ社の産業グレード、コンパクト、ターンキー操作、および堅牢なファイバーレーザー技術は、最高の本質的安定性を提供し、光源を装置に深く統合することを可能にします。優れた空間ビームプロファイルは、比類のない集光性と解像度を保証し、あなたのアプリケーションの真の可能性を引き出すことが可能です。十分な出力、短パルス、極めてクリーンな時間パルス形状に加え、分散補償とパワー制御のオプションを備えた FemtoFiber ultra 780 は、次世代の 2 光子重合および半導体分析に最適な選択肢となります。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ・2光子重合 ・半導体検査 ・2光子顕微鏡 ・SHG 顕微鏡法 |
取扱企業780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』
780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。