電子ビーム真空蒸着装置アトーテック

メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上！

本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより
特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。

真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、全て電磁バルブを使用した
全自動排気系。到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入ります。

この他、電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置「マグネトロン
スパッター装置」や、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用される
「3KV イオン銃(SIG030)」などをご用意しております。

【特長】
■真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、
　全て電磁バルブを使用した全自動排気系
■到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入る
■メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報電子ビーム真空蒸着装置

【その他の特長】
■マグネトロンスパッター装置
・超高分解能SEMにおいて超高倍率の観察に活躍(20万倍以上)
・試料反転機構を装備し、グリッドメッシュの両面に連続でコーティングが可能
・空冷式マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にし、ターゲットの温度上昇を防ぐ
■3KV イオン銃(SIG030)
・超高真空中で試料表面のクリーニングを目的とした「Arスパッタイオン銃」
・薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用される
■3KV イオン銃電源(IGP030)
・オートエミッション機構を有し、安定したイオン源

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
用途／実績例	※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。