メトロームジャパン株式会社 【プロセス分析計 技術資料】CMT工程の過酸化水素を全自動で測定

プロセス分析計 / オンライン分析計でCMT工程における過酸化水素の濃度を常時モニタリング!

ケミカル・メカニカル・ポリシャ«CMP»は、シリコンウェハ表面を滑らかにしたり研磨したりするために使用される主要な技術の1つです。
一般的には、この工程では、脱イオン水、CMPスラリー(コロイド状シリコンやアルミナ液体分散体)、および過酸化水素(強酸化剤)を一定の濃度と比率で混合する工程です。
過酸化水素は経時的に劣化するため、CMP工程を効率よく繰り返し行うためには、その濃度をオンラインで常時監視する必要があります。このように、CMPスラリーが常に規格内であることを確認し、必要に応じて混合物を調整することで、製品の歩留まりを抑制します。

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● 電位差自動滴定装置 ● カールフィッシャー水分計 ● イオンクロマトグラフ ● 近赤外分光分析計 ● ラマン分光計 ● pH計 導電率計 ● イオン計 ● 酸化安定性試験装置 ● ボルタンメトリー(VA) ● CVS分析計 ● 電気化学測定装置(ポテンショスタット/ガルバノスタット) 【装置は3年間保証】 【アクセサリ/消耗品は製造終了後10年間保証】 【ソフトウェアは装置製造終了後5年間サポート保証】 【アニオンサプレッサは10年間保証】

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