FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。
【特徴】
・低温(150～300℃)成膜
・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜
・シンプルメンテナンス
・低CoO(低ランニングコスト)
・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル
・導入・維持コストの削減: 小フットプリント、真空・プラズマ処理不要
【用途】
・FPD向け絶縁膜(NSG)
・酸化物半導体TFT パッシベーション膜(NSG)
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。
基本情報ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」
成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3％以内を実現しました。
4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を確保できます。
●装置サイズ(mm): 1300mm(W) x 7350mm(D) x 2000mm(H)
●ガス種: SiH4, O3/O2, PH3, B2H6
●成膜温度: 150～300℃
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ・FPD向け絶縁膜(NSG) ・酸化物半導体TFT パッシベーション膜(NSG) |
取扱企業ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」
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【関連製造部門】 ●(株)ワコム製作所 石英ガラス製品（ASM Epsilion石英部品、各種加工品）、シリコーンゴム製品、半導体装置用部品、ラッピング・ポリッシング用キャリア ●(株)トムコ ウエハ移換機、IPA蒸気乾燥装置、部品再生洗浄、部品加工 ●(株)天谷製作所 常圧CVD装置、MO-CVD装置、フォトマスク洗浄装置 【環境関連】 ソーラ用Siウエハ、セパレーター＆クリーニングシステム、ワイヤーソークーラント回収システム、酸化セリウム回収システム、スラリーリサイクルシステム、IPAリサイクルシステム、水質分析計、無機系凝集剤オイルフロック 【素材・部品関連】 コバレントマテリアル(株)製品 (石英ガラス、SiC、カーボン)、ファインセラミックス、マシナブルセラミックス、各種フィルター、その他半導体装置用消耗部品、シリコーン樹脂、耐火物、各種ヒーター関連
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