弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク／レチクル製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。
【特徴】
・ハイクリーン化と歩留向上に貢献
・検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能
・ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツール
・RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
・機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備
・洗浄面への洗浄液高速拡散
・ウォーターマークレス乾燥
【用途】
・フォトマスク/レチクル/マスクブランクスメーカーでの製品洗浄
・半導体デバイスメーカーの露光前レチクル洗浄
・半導体デバイスメーカー内製マスクライン(マスクショップ)での製品洗浄
【納入実績】
・国内外マスクブランクス/フォトマスク/レチクルメーカー
・国内外デバイスメーカー
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。
基本情報スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」
LSIの高性能化に伴い、フォトマスク／レチクルは、より高精細 ・ 高精度である事を要求されています。当社の洗浄装置はこれら製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。
機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備、ワーク回転の遠心力とオゾン水、アンモニア添加水素水吐出により、検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能なユニットです。各洗浄液を切り換えて洗浄することにより、ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツールです。
RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
SPM → オゾン水
・完全室温洗浄の実現(高温プロセス不要)
・マスク上の薬液残留量減少
・廃液処理の安全化(ISO14000対策)
SC-1 → アンモニア添加水素水
・MoSiハーフトーンマスクのエッチング防止
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | WULFシリーズ |
| 用途／実績例 | 【用途】 ・フォトマスク/レチクル/マスクブランクスメーカーでの製品洗浄 ・半導体デバイスメーカーの露光前レチクル洗浄 ・半導体デバイスメーカー内製マスクライン(マスクショップ)での製品洗浄 【納入実績】 ・国内外マスクブランクス/フォトマスク/レチクルメーカー ・国内外デバイスメーカー |
カタログスピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」
取扱企業スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」
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【関連製造部門】 ●(株)ワコム製作所 石英ガラス製品（ASM Epsilion石英部品、各種加工品）、シリコーンゴム製品、半導体装置用部品、ラッピング・ポリッシング用キャリア ●(株)トムコ ウエハ移換機、IPA蒸気乾燥装置、部品再生洗浄、部品加工 ●(株)天谷製作所 常圧CVD装置、MO-CVD装置、フォトマスク洗浄装置 【環境関連】 ソーラ用Siウエハ、セパレーター＆クリーニングシステム、ワイヤーソークーラント回収システム、酸化セリウム回収システム、スラリーリサイクルシステム、IPAリサイクルシステム、水質分析計、無機系凝集剤オイルフロック 【素材・部品関連】 コバレントマテリアル(株)製品 (石英ガラス、SiC、カーボン)、ファインセラミックス、マシナブルセラミックス、各種フィルター、その他半導体装置用消耗部品、シリコーン樹脂、耐火物、各種ヒーター関連
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