アズサイエンス株式会社 BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。
プラスチックや有機フィルムへの成膜用途(プラズマアシスト蒸着)や表面改質用途に適しています。

〇特長
・無加熱成膜でも密着性が良い
・填密度の高い薄膜が形成
・既設の真空チャンバーへ後付けも可能

※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

基本情報BS-80020CPPS プラズマソース

【仕様】
最大放電出力:3.2kW (160V, 20A)
放電ガス(Ar):8~20mL/min

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価格情報 お問い合わせください。
価格帯 1000万円 ~ 5000万円
納期 お問い合わせください
※配送地域によって変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名 BS-80020CPPS
用途/実績例 【用途】
プラスチックや有機フィルムへの成膜プラズマアシスト蒸着)や表面改質

カタログBS-80020CPPS プラズマソース

取扱企業BS-80020CPPS プラズマソース

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アズサイエンス株式会社 松本本社

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