株式会社ハイテック・システムズ マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』
- 最終更新日:2023-06-16 14:15:23.0
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最大200mm径基板!ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)
『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの
マグネトロンスパッタ装置です。
アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、
光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。
また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。
ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。
【特長】
■最大200mm径基板
■回転式単体マグネトロン(最大径300mm)
■共焦式4マグネトロン
■ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』
【アプリケーション】
■TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)
■AlN等圧電膜
■光学用高・低屈折膜
■絶縁膜(Si3N4、SiO2、Al2O3)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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