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『中古部品買取・販売／リファービッシュエンジニアリング』のご紹介
約8万点の中古部品在庫を保有し、最短即日出荷。半導体・FPD製造装置の再整備にもメーカー問わずワンストップで低価格対応
当社は、半導体・FPD製造装置を中心に機器の販売等を行っています。 今回は当社で実績のある『中古部品の販売』と 『リファービッシュエンジニアリング』についてご紹介いたします。 【中古部品…
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物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能！高選択性のエッチング
当社では、先端のIC等デバイスのパッケージに適応した故障解析のための 開封装置を提供しております。 独自の新規プラズマ技術MIP(Microwave Induced Plasmaマイクロ波誘導…
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超電導磁気センサー(SQUID)を搭載！どのような静的欠陥も見つけ出すことが可能
『Magma EFI HiRes』は、故障解析用検査装置です。 超電導磁気センサー(SQUID)を搭載し、極めて高い感度で種々のデバイスの どのような静的欠陥も見つけ出すことが可能。 サ…
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高品質な薄膜と界面の情報を得ることが可能！プロセスモニタリングのための診断ツール
『Ion Energy Spectroscopy(IES)』は、イオンエネルギー分光法です。 PLD/PEDシステムに対してin-situにおけるリアルタイムでの プロセスモニタリングのための…
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リアルタイムでの薄膜組成の情報を得ることが可能！プロセスモニタリングのための診断ツール
『Low Angle X-ray Spectroscopy(LAXS)』は、低角度X線分光法です。 PLD/PEDシステムに対してin-situにおけるリアルタイムでの プロセスモニタリングの…
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薄膜成長を調節！リアルタイムでのプロセスモニタリングのための診断ツールをご提供
『High-Pressure Reflection High-Energy Electron Diffraction(RHEED)』は、 高圧反射高エネルギー電子回折です。 PLD/PEDシス…
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高エネルギーのパルス電子ビームで目的物質を素早く蒸発！全固体物質の成膜が可能
『Pioneer 180 PED System』は、パルス電子堆積法はPLD同様種々の デバイスに対して複雑な物性の薄膜形成が可能な、PED(パルス電子堆積法)装置です。 高エネルギーのパルス…
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多用途の薄膜形成が可能！導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱
『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。 標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、 導電ヒーターにより950℃まで基板を…
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フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能
『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレ…
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多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計
当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、 「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARI…
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放射性汚染を最小限に抑制！用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能
『PUPIONシリーズ』は、プラズマイオン注入装置です。 ナノエレクトロニクス・フォトニクスでのShallow depth dopingや β放射線医療のグレードの放射性同位。 放射性同…
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800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能！高効率・高品質な成膜が可能なパルスレーザー成膜装置
『GLAZEシリーズ』は、先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置です。 ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能。 800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能で、 マグネトロン…
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PLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能！PVDやPECVDプロセスに対応
当社では、カーボンナノチューブ合成装置触媒蒸着を取り扱っております。 ハイブリッドリアクター構成によりPVDやPECVDプロセスに対応。 大気開放せずCNTやグラフェン合成の全てのステップ…
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MWPECVD用R&D装置に好適！MW-SURFATRONSは常圧または減圧に対応
『MIRENIQUEシリーズ』は、マイクロ波プラズマソースです。 PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向けで、 リアクター及びプラズマソースは、MWPECVD用…
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同一チャンバーに搭載可能！マルチゾーン化によりクロスコンタミを低減
『ATMOS-R2Rシリーズ』は、ロール to ロール装置です。 様々なタイプのフレキシブルなフィルムへの表面トリートメント・成膜し、 同一チャンバーのマルチゾーン化によりクロスコンタミを低減…
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プラズマアシストリアクティブ成膜可能！インテグレーション用オプションなどにも対応
『FLARIONシリーズ』は、プラズマ成膜及びエッチング装置です。 PLUMシリーズのシームレスICPによるプラズマアシストリアクティブ成膜が可能。 また、基板回転機構、バイアス機構やプロ…
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シングル・マルチカソード対応！グローブボックスとのインテグレーションも可能
『MAGNION、FLARION、EVADシリーズ』は、卓上薄膜蒸着及び プラズマ装置です。 マグネトロンスパッタPVD装置は、シングル・マルチカソード対応。 熱蒸着装置は、有機・無機材…
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多目的用途に対応可能なICP、中性原子、イオンソース！プラズマソースをご紹介
当社で取り扱う『PLUME シリーズ』をご紹介します。 粉体やインライントリートメント用、リモートプラズマソース/ イマースドプラズマソースとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽…
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金属、誘電及び有機膜成膜！熱蒸着装置をご紹介
当社で取り扱う『EVAD シリーズ』をご紹介いたします。 当製品はPID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜の熱蒸着装置。 また、電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜…
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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 …
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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャンバー
『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントロー…
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ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター
『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 …
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最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能
『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとな…
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アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介
『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽…
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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャンバーは3種類から
『3ICP＋2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 5…
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透過膜のエッチングや成膜のIn-situでの膜厚モニターに！スポットサイズ100μm
『SLI 670』は、波長が670/980nmのプラズマ装置用 エンドポイントモニターです。 プラズマ装置の上部の窓からレーザービームを照射し サンプルからの反射光を測定し膜厚を測定します。…
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ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現
『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメー…
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高選択性エッチング！ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化
『SI 500』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICP-RIEです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の 高いプラズマ密度により高エッチレートを実現。…
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トップクラスのスループット！柔軟性のあるモジュール化されたデザイン
『Firebird』は、大規模量産の為のクラスターツールタイプ サーマル式のALD装置です。 実績のあるVeecoの自動化システムを搭載しており、 基板への衝撃の少ないバッチ搬送。 ご…
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量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～285℃
『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。 優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、 多用途に対し容易に使用可能。 また、セミオ…
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500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用
『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。 プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に 真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の …
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研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trap標準搭載
『Savannah G2』は、シンプルで使いやすく研究開発から 少規模の量産まで対応可能な柔軟性のあるサーマル式のALD装置です。 高い成膜性能をシンプルなシステムで実現しており、 用途と予…
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基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご紹介
『scia Cube 300/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。 プロセスは、マイクロウ…
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イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』
最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビームスパッタ装置をご紹介
『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。 プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、 イオンビームエッチング…
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最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)
『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜…
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メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構
『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる 膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。 最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。 また、プロセスはイ…
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イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』
最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜・回転機構
『scia Mill 150/200』は、マイクロウエーブECRソース(218mm径)の イオンビームミリング装置です。 プロセスは、イオンビームエッチング/ミリング(IBE/IBM)、 反…
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約10万点在庫の中古パーツ販売＜取り扱い部品等の一覧表進呈＞
お客様の欲しいパーツを短納期・低コストで提供。国内大手企業との取引実績多数。買取査定も受付中
【こんなお困りごとはありませんか？】 「故障した設備を直したいが、部品の生産が終了している」 「部品が手に入らず、製品の納品が間に合わない」 当社では、中古品・生産終了品・新品の各種パーツ類…
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海外の先端システムとお客様のニーズをつなぐ エンジニアリング技術
成膜サービス・サポート体制が充実したナノテクノロジーや３次元加工アプリケーションなどのテクノロジー装置を販売する先端システム事業
海外の先端システムとお客様のニーズをつなぐエンジニアリング技術を提供します。 欧米諸国で評価の高い、薄膜関連装置を国内のお客様に供給するにあたり、それを提供するエンジニアを育てることを大切にしていま…
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高い技術力で中古導入を成功に導く リノベートテクノロジーサービス
リノベートテクノロジーと先端薄膜システムの提供という二つの柱を中心に、半導体・FPD業界に新しい時代をご提案【カタログ進呈中】
ハイテック・システムズは、リノベートテクノロジーのリーディング・カンパニーとして、高い技術力で中古導入を成功に導きます。 リノベートテクノロジーと先端薄膜システムの提供という二つの柱を中心に、半導体…
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イオンビームミリング装置
独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan…
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デュアルイオンビーム成膜装置
独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan…
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ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置
独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan…
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基板面内を局所的に且つ高精度にエッチングします。
独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan…
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4.5世代、5.5世代角基板を成膜します
ハイテックシステムズは、ALD（Atomic Layer Deposition）装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のA…
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ハイテック・システムズへのお問い合わせ
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