PLD装置『Pioneer 120 PLD System』ハイテック・システムズ

多用途の薄膜形成が可能！導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱

『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。

標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、
導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能。

また、パルスレーザー(＜20nsのパルス幅)により素早く目的の物質を蒸発させ、
その組成を維持したまま薄膜の形成が可能です。

【特長】
■PLD(Pulsed Laser Deposition)
・パルスレーザー堆積法により多用途の薄膜を形成することが可能
■パルスレーザー(＜20nsのパルス幅)
・素早く目的の物質を蒸発させ、
　その組成を維持したまま薄膜の形成が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://www.hightec-sys.com/mems/neocera.html#make…

基本情報PLD装置『Pioneer 120 PLD System』

【その他の特長】
■標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で
　導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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取扱企業PLD装置『Pioneer 120 PLD System』

株式会社ハイテック・システムズ

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