株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン 保護膜『ASD』
- 最終更新日：2023-06-21 17:46:19.0
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高い耐摩耗性！表面電気抵抗のコントロールが可能な保護膜をご紹介
『ASD』は、半導体産業にて主として問題となる静電放電を
防止するための保護膜です。
「E-chucks」をはじめ「Wafer handler」や「Wafer Stages」
といった用途で使用可能。
また、基板への優れた密着性を有しています。ご用命の際は、
お気軽にお問い合わせください。
【特長】
■表面電気抵抗のコントロールが可能
■基板への優れた密着性
■室温成膜
■超低摩擦係数
■高い耐摩耗性
※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報保護膜『ASD』
【仕様】
■膜厚：～10nm
■電気抵抗：～105Ωcm
■成膜温度：150℃以下
※英語版カタログをダウンロードいただけます。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■E-chucks ■Wafer handler ■Wafer Stages ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ保護膜『ASD』
取扱企業保護膜『ASD』
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株式会社ナノフィルム テクノロジーズジャパンは、シンガポールに本社をおく、 ナノフィルム テクノロジーズインターナショナル社（NTI）の日本法人です。 本社社長のDr.Shiは、1999年にFCVA方式（*1）の商業化に成功しNTI社を設立、 新しい真空成膜技術による、スーパーDLC（水素基フリーのta-C膜）、Micc膜、各種金属膜を提供しています。
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