【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバーアントンパール・ジャパン

試料を均一に加熱できる1200 ℃高温チャンバー自社装置はもちろん、他社製XRD装置にもOEM製品として装着可能

非接触加熱方式のオーブンヒーターにより試料を均一に温度制御できます。

サンプル回転オプションを装着すれば、反射配置の回折データ品質が向上し、プロファイルフィッティングがやりやすくなります。温度センサーは保護⽤セラミックサンプルホルダー内の試料の真下に配置されており、信頼性が⾼く再現性のある温度測定を保証します。

キャピラリーエクステンションを使⽤すると、透過配置での測定が可能になります。試料のタイプや測定目的に応じて様々なキャピラリホルダーおよびキャピラリーを使⽤できます。

空気に⾮常に敏感な試料は、密閉されたキャピラリー内で測定できます。密閉しないタイプのキャピラリーも使用でき、この場合はガス放出物質を調査する⼿段が得られます。

※アントンパール社製XRD装置用チャンバーは、自社製装置「XRDynamic500」はもちろん、他社製のXRD装置にもOEM製品として装着が可能です。
(チャンバー購入のご依頼はアントンパール社に直接ご依頼頂けます。)

基本情報【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー

代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : 25~1200℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射及び透過

価格帯	100万円 ~ 500万円
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	HTK 1200
用途／実績例	❶鉱物 ❷医薬品 ❸化学品 ❹金属及び合金 ❺建築資材 ❻ナノマテリアル ❼電池 ❽食品サンプル ❾コロイド及び生物学的サンプ