1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています
• 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です
• 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です
• 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます
• 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません
• 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です
• 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
基本情報OSK 481TVK-V 1200℃ 真空管状炉
OSK 481TVK-V 1200℃ 真空管状炉は、作業チューブを自由に交換できる画期的な製品です。
この炉は、反応器の加熱プロセスやシリコンウエハの生産に伴う研究開発に最適です。発熱体は炉心管とは隔離しており、高品質の断熱材で覆われています。その結果、低電力使用量と高精度を実現しました。
また、短い加熱/冷却期間とマイクロプロセッサ温度調節器により、操作性も抜群です。
さらに、水冷式ガスタイトシールや断熱炉心管内プラグなどのアクセサリーにより、より長い均熱長をもたらす事が可能です。
| 価格情報 |
定価950,000円~（税抜き） 真空ポンプの仕様により価格は変動します。 配送・搬入・設置試験はご要望に応じてお見積り致しますので、 ご希望をご連絡ください。 |
|---|---|
| 価格帯 | 50万円 ~ 100万円 |
| 納期 |
お問い合わせください
※仕様によって納期が異なりますので、お気軽にお問い合わせください。 |
| 型番・ブランド名 | OSK 481TVK-V 1200℃ |
| 用途／実績例 | ◎高温ガス炉の燃料棒や熱交換器などの高温材料の評価や開発 ◎高温超伝導体やナノ材料などの新規機能性材料の合成や特性評価 ◎太陽電池やLEDなどの半導体デバイスの製造工程における酸化・拡散・CVDなどの熱処理 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| OSK 481TVK-V12 | • 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用 • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能 • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能 • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易 |
取扱企業OSK 481TVK-V 1200℃ 真空管状炉
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