高アスペクト構造　トレンチパターンウェハ『PT063』フィルテック

深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現

当社は先端の半導体技術によるテストウエハで、お客様の技術・製品開発を強力に支援しております。
（ベアSiウエハ/ 膜付ウエハ/パターンウエハ)

トレンチパターンパターンウェハ『PT063』は、ボッシュプロセスによる深堀エッチング技術により高アスペクト構造を実現しております。
当社の標準レイアウトで、マスク寸法0.2µm~10µmのトレンチパターンを配置しており、最大アスペクト比は40~65程度となります。
開発効率化を求める皆様のニーズに答える製品としておすすめいたします。是非ご活用ください。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報高アスペクト構造　トレンチパターンウェハ『PT063』

・ウェハサイズ：200mm
・ショット数：89
・マスク寸法：0.2µm~10µm
・最大アスペクト比：40~65程度
（※埋め戻し対応による高アスペクト化も承ります。）
・ウェハ1枚から、チップでのご購入も可能です。

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用途／実績例	成膜カバレッジ評価