有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 【回路形成】イオン注入
- 最終更新日:2023-09-04 17:00:27.0
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露光された表面の電気的特性を変化!半導体の回路形成についてご紹介
当社の半導体における、回路形成「イオン注入」についてご紹介します。
「イオン注入」は、半導体素子を形成するために
チップ製造中に何度も使用。
イオン注入中ウェーハは、ドーパントと呼ばれる帯電した
イオンのビームによって衝撃を受け、露光された表面の
電気的特性を変化させます。
【特長】
■半導体素子を形成するためにチップ製造中に何度も使用
■露光された表面の電気的特性を変化
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基本情報【回路形成】イオン注入
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