書籍『レジスト材料の基礎とプロセス最適化』シーエムシー・リサーチ

半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に関する基盤技術やノウハウを集約しております。

本書では、フォトレジスト技術に関する幅広い分野をカバーし、実用書としても有意義な内容を構成しています。
具体的には、フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置までを幅広く網羅し、パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術も含まれており、フォトレジスト材料を扱う技術者の一助となるように構成されております。

【本書の特徴】
➢ 半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないレジスト材料
➢ フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置までを幅広く網羅
➢ デバイス製品規格をクリアできる技術の基礎およびノウハウの習得を目指す
➢ パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術まで詳述
➢ フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化といった課題の解決を支える
➢ フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約した機能的な一冊

基本情報書籍『レジスト材料の基礎とプロセス最適化』

【目次構成】
第1章　レジスト材料　
第2章　レジストプロセス　
第3章　ナノスケール計測技術　
第4章　レジスト付着性　
第5章　レジスト欠陥　
付録　Q＆A　

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