QY Research株式会社 CMP研磨液の世界市場シェア2024
- 最終更新日：2023-12-27 15:04:16.0
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CMP研磨液は、非結晶性無機酸化物とも呼ばれる研磨材で、他の化学薬品と混合して水に分散させ、半導体のCMP工程で使用されます。CMP研磨液は半導体製造工程で使用され、研磨スラリーの助けを借りてウェハーの表面を平滑にし、平らにします。このプロセスは、精密なリソグラフィー・パターニングに不可欠であり、各蒸着・エッチング工程の後に利用されます。
CMP研磨液は一般に、高純度の脱イオン水と、化学添加剤と人工研磨剤を独自に配合した液体溶液で、ICデバイスの表面材料と原子レベルで化学的・機械的に相互作用する。
CMP研磨液は、タングステン、誘電体材料、銅、タンタル（一般に「バリア」と呼ばれる）、アルミニウム、炭化ケイ素（SiC）、窒化ガリウム（GaN）など、半導体に使用されるさまざまな材料を研磨します。
QYResearchが発行した最新市場調査レポート「CMP研磨液の世界市場レポート 2023-2029年」によると、CMP研磨液の世界市場規模は2029年までに2.78十億米ドルに達し、予測期間中の年平均成長率は6.2%になると予測されています。
基本情報CMP研磨液の世界市場シェア2024
市場促進要因
半導体の世界市場は、2022年には5,790億米ドルと推定され、2029年には7,900億米ドルに達すると予測され、予測期間中のCAGRは6%で成長する。2022年においても、アナログが20.76％、センサーが16.31％、ロジックが14.46％と、前年比2桁成長を続ける主要カテゴリーもあるが、メモリーは前年比12.64％の減少となった。マイクロプロセッサー（MPU）とマイクロコントローラー（MCU）分野は、ノートブック、コンピューター、標準的なデスクトップへの出荷と投資の低迷により、成長が停滞する。現在の市場シナリオでは、IoTベースの電子機器の人気の高まりが、強力なプロセッサとコントローラのニーズを刺激している。ハイブリッドMPUとMCUは、IoTベースのアプリケーションの最上位にリアルタイム組み込み処理と制御を提供し、市場の大幅な成長をもたらしている。アナログICセグメントは徐々に成長すると予想されるが、ネットワークおよび通信業界からの需要は限定的である。アナログICの需要拡大における新たなトレンドには、信号変換、車載用アナログ・アプリケーション、電源管理などがある。
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| 用途／実績例 | 著者紹介 Junping Yang - 主執筆者 Junping Yangは半導体デバイス、材料、装置を専門とするテクノロジー＆マーケットシニアアナリスト。半導体分野で9年の経験を有し、IC、半導体材料、パッケージ＆テスト、パワー半導体（IGBT、SiC、ダイオード、MOSFET、モジュール、ディスクリート）、化合物半導体（SiC、GaNなど）、パワー、RF、オプトエレクトロニクス、セラミック基板（HTCC、LTCC、DBC、AMB、DPC、DBA）、CMP、装置＆部品（ウェーハ搬送ロボット、EFEM/ソーター、ヒーターなど）に注力。 QYResearchについて QYResearchは2007年に米国カリフォルニア州に設立された世界的な市場調査とコンサルティングのリーディングカンパニーです。16年以上の経験と世界各都市の専門調査チームにより、QYResearchは経営コンサルティング、データベース、セミナーサービス、IPOコンサルティング、業界チェーン調査、カスタマイズ調査に重点を置き、クライアントに非線形収益モデルを提供し、成功に導くお手伝いをしています。 |
カタログCMP研磨液の世界市場シェア2024
取扱企業CMP研磨液の世界市場シェア2024
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