Panorama Data Insights Ltd. 【マーケットレポート】極端紫外リソグラフィーシステム市場

最終更新日：2024-02-13 15:39:02.0
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世界の極端紫外線リソグラフィー（EUVL）システム市場は2031年までに750億米ドルに達すると予想

世界の極紫外線リソグラフィー（EUVL）システム市場は目覚ましい成長を遂げており、2022年の収益は100億米ドルに達します。最近の市場分析によると、市場は急激に拡大し、2031年までに750億米ドルに達すると予測されています。この大幅な成長軌道は、2023 年から 2031 年までの予測期間中の 25.1% の年平均成長率 (CAGR) を反映しています。次世代リソグラフィー (NGL) 技術の基礎である極端紫外線リソグラフィー (EUVL) システムは、半導体製造プロセスに革命をもたらしています。世界的に。

極端紫外線リソグラフィー (EUVL) は半導体製造の最前線にあり、比類のない精度と効率でマイクロチップやマイクロプロセッサーを製造できるようになります。 30nm ほどの小さなラインを印刷できる EUVL システムは、従来の光リソグラフィー方法から大きな進歩をもたらします。

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基本情報【マーケットレポート】極端紫外リソグラフィーシステム市場

セグメンテーションの概要

世界の極端紫外線リソグラフィー (EUVL) システム市場は、光源、装置、及び地域に焦点を当てて分類されています。

光源別

レーザー生成プラズマ (LPP)
真空スパーク
ガス放電

装置別

マスク
光源
ミラー
その他

主要な企業:

Canon Inc
Nikon Corporation
ASML
Ultratech Inc.
Vistec Semiconductor Systems
Intel Corporation
Nikon Corporation
NuFlare Technology Inc.
Samsung Corporation

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型番・ブランド名	レポートID: AA02241108
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