時代のニーズに応え、進化する3つのラインアップ！3D局所加熱装置をご紹介
『S-WAVE』は、金属ベース基板をはじめ、セラミック基板から
低耐熱部品まで対応する3D局所加熱装置です。
狭いスポットを急速300℃加熱する「S-WAVE301A」
高い連続運転性能を実現する「S-WAVE301」
従来機種と比較し2倍の加熱力を実現する「S-WAVE301H」。
時代のニーズに応え、進化する3つのラインアップを
ご用意しております。
【特長】
＜S-WAVE301A＞
■低消費電力で高い加熱効率を実現
■スルーホール端子のはんだ付けに好適
■プリント基板等のパッド面を予熱
■輻射熱を抑え、終戦部品への影響を抑制
■ICNIRP、電波法などの各種規制に対応
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報特長的な基盤にも対応可能な3D局所加熱装置『S-WAVE』
【その他の特長】
＜S-WAVE301＞
■冷却力UPで高出力時の加熱時間を伸長
■加熱間隔を短く、サイクルタイムを短縮
■ヘッドユニットの小型化を実現
■はんだ上がりの改善、赤目対策に有効
＜S-WAVE301H＞
■大きな熱量を要するプリント基板をスポット加熱
■パワー半導体のはんだ上がりを改善
■バスバーのはんだ上がりを改善
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■金属ベース基板、セラミック基板、厚銅基板、高多層基板、4層基板 ■パワー半導体、バスバー、両面基板、片面基板、電子部品一般 ■フレキシブル基板、低耐熱部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ特長的な基盤にも対応可能な3D局所加熱装置『S-WAVE』
取扱企業特長的な基盤にも対応可能な3D局所加熱装置『S-WAVE』
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