研究・開発実験用　RFスパッタ装置サンユー電子

実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆

お薦めPOINT　＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞
1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意
2．カソードサイズは2〜6インチに対応
3．2インチカソードタイプは3源式にも対応　＝　薄膜の積層を実現
4．多彩なオプションをご用意
　　基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.

基本情報研究・開発実験用　RFスパッタ装置

☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆

お薦めPOINT　＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞
1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意
2．カソードサイズは2〜6インチに対応
3．2インチカソードタイプは3源式にも対応　＝　薄膜の積層を実現
4．多彩なオプションをご用意
　　基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.

価格情報	-
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型番・ブランド名	SVC-700RFシリーズ
用途／実績例	各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成

ラインナップ

型番	概要
SVC-700RFI	2インチカソード(デポダウン)専用　ベンチトップタイプ小型RFスパッタ装置
SVC-700RFII Type-I	2～4インチカソード対応(1源)　※2インチは3源式対応研究開発用RFスパッタ装置(出力300W)
SVC-700RFII Type-II	6インチカソード対応モデル研究開発用RFスパッタ装置(出力300W)