金属蒸着セル
【特長】
ICF-70によるコンパクト/省スペース設計
シャッター機構標準装備
±0.1℃による温度設定が可能
●応用材料
・Si (Silicon)
・As (Arsenic)
・Ga (Gallium)
・Al (Aluminum)
・In (Indium)
・P (Phosphorus) etc
※仕様に合わせて任意のストローク、形状等承ります。
基本情報金属蒸着セル(クヌーセン・セル:K-セル)
●応用材料
・Si (Silicon)
・As (Arsenic)
・Ga (Gallium)
・Al (Aluminum)
・In (Indium)
・P (Phosphorus) etc
※御客様の仕様に合わせて任意のストローク、形状等承ります。 こちらへお問合せください。
価格情報 | - |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | (使用例) |
カタログ金属蒸着セル(クヌーセン・セル:K-セル)
取扱企業金属蒸着セル(クヌーセン・セル:K-セル)
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最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品(フランジ・継手類、他) 《PVD/CVD装置》 ◆有機EL材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機TFT開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置(MBE) (化合物半導体・窒化物・酸化物) ◆有機金属気相成長装置(CVD) 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置(FIM) ◆電子エネルギー分析システム(CMA) ◆TEMホルダー(加熱/低温) ◆UHVレーザー顕微鏡装置 ◆3次元アトムプローブ装置(3DAP)
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