ランプアールユニット
ランプアールユニット http://www.ipros.jp/data/products/tmp/333480/004/img/lamp are unit.jpg 急速加熱、高精度温度分布を実現した ランプアールユニット 【特徴】 ○サークル形状の高出力赤外線ランプヒーターを用いて  基板の上下から加熱することで、急速加熱・高精度温度分布を実現 ○チャンバー内面に特殊表面処理の冷却反射プレートを採用  優れたプロセス再現性と、急速冷却が可能 ○処理基板:φ300mm ○最高使用温度:1000±10℃ ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 株式会社メープル 機械部品 > 油空水圧機器 > 油圧機器 -
  • ランプアールユニット
    株式会社メープル
    急速加熱、高精度温度分布を実現した
    ランプアールユニット

    【特徴】
    ○サークル形状の高出力赤外線ランプヒーターを用いて
     基板の上下から加熱することで、急速加熱・高精度温度分布を実現
    ○チャンバー内面に特殊表面処理の冷却反射プレートを採用
     優れたプロセス再現性と、急速冷却が可能
    ○処理基板:φ300mm
    ○最高使用温度:1000±10℃

    ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
  • ランプアールユニットの製品画像です
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基本情報ランプアールユニット

急速加熱、高精度温度分布を実現した
ランプアールユニット

【特徴】
○サークル形状の高出力赤外線ランプヒーターを用いて
 基板の上下から加熱することで、急速加熱・高精度温度分布を実現
○チャンバー内面に特殊表面処理の冷却反射プレートを採用
 優れたプロセス再現性と、急速冷却が可能
○処理基板:φ300mm
○最高使用温度:1000±10℃

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

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よく使用される業種

民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、試験・分析・測定、IT・情報通信

カタログランプアールユニット

  • 【特徴】
    ○サークル形状の高出力赤外線ランプヒーターを用いて
     基板の上下から加熱することで、急速加熱・高精度温度分布を実現
    ○チャンバー内面に特殊表面処理の冷却反射プレートを採用
     優れたプロセス再現性と、急速冷却が可能
    ○処理基板:φ300mm
    ○最高使用温度:1000±10℃

    ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

取扱会社ランプアールユニット

マスフローコントローラ|ドライ洗浄装置|UV照射装置|エリプソメーター|超音波洗浄|真空装置|等の販売。

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