有限会社山口ティー・エル・オー 細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
- 最終更新日：2010-10-01 00:00:00.0
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細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
ナノサイズの微細孔に磁性材料等を埋込み、パターンドメディア等を製造する技術です。
【特徴】
●イオン照射を併用したスパッタリング法によって、細孔の奥まで
効率よく磁性体等を充填することができ、空隙や不純物の極めて
少ない磁性体等の層を形成可能
●超臨海流体または亜臨海流体を用いためっき法により、低粘性、
高拡散性、表面張力０の性質によって、大面積のディスク全面に
分布する細孔内部に均一に磁性材料等を充填可能
◇◆詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい◆◇
基本情報細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
ナノサイズの微細孔に磁性材料等を埋込み、パターンドメディア等を製造する技術です。
【特徴】
●イオン照射を併用したスパッタリング法によって、細孔の奥まで
効率よく磁性体等を充填することができ、空隙や不純物の極めて
少ない磁性体等の層を形成可能
●超臨海流体または亜臨海流体を用いためっき法により、低粘性、
高拡散性、表面張力０の性質によって、大面積のディスク全面に
分布する細孔内部に均一に磁性材料等を充填可能
◇◆詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい◆◇
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【応用】 ●超高密度磁気記録媒体（パターンド垂直磁気記録メディア） ●各種ナノ構造体の作製 |
カタログ細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
取扱企業細孔内部に均一に奥まで材料を充填できるパターンドメディア製造方法
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