R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産
【特徴】
○緻密で経時変化が少ない
○基盤との付着力が強い
○低温での処理が可能
○反応性イオンプレーティングができる
○成膜材料の汎用性が高い
・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
基本情報R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産
【特徴】
○緻密で経時変化が少ない
○基盤との付着力が強い
○低温での処理が可能
○反応性イオンプレーティングができる
○成膜材料の汎用性が高い
・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格情報 | - |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 電気・電子部品 真空装置部品 航空宇宙関連 機械部品・金型 |
取扱企業R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
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