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[SSDP用加工]基板側からの測定用加工
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クライオ加工
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[IP法]Arイオン研磨加工
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Arイオンミリング加工
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【分析事例】FIB低加速加工
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【分析事例】切断加工を併用した金属配管内壁のXPS分析
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ウルトラミクロトーム加工_B0172
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【分析事例】斜め加工を用いたMLCCの不純物評価 MLCC
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【分析事例】加工食品中エマルションのクライオFIB-SEM観察
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非破壊分析サービス 2018年4月より開始のお知らせ
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集束イオンビーム_FIB_A0013
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【分析事例】有機EL素子の層構造評価_C0087
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【分析事例】ウエハ表面の微小異物分析_C0334
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【分析事例】有機EL素子の層構造評価_C0088
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ミクロトーム法で作製した毛髪断面の機械特性評価_C0670
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【分析事例】ワイヤボンディング界面の元素分析_C0486
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【分析事例】ソフトマテリアルの断面観察と元素分析_C0244
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【分析事例】テクスチャ付きGaN系LEDの元素分布評価
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【分析事例】セラミックスのぬれ性原因評価_C0705
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【分析事例】Si系太陽電池のBSF層の評価_C0136
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【分析事例】TOF-SIMSによる毛髪の評価_C0507
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三次元培養ヒト皮膚を用いた皮膚透過性評価
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【分析事例】有機EL層の定性分析
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【分析事例】有機EL素子の成分分析
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【分析事例】眼球に投与した薬剤成分の分布評価
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【分析事例】樹脂中に存在している異物の評価
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【分析事例】近赤外VCSELのSMMによるキャリア分布評価
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【分析事例】リチウムイオン二次電池 電極材料の評価
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【分析事例】歯のエナメル小柱の断面観察
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【分析事例】ステンレス(SUS)不動態皮膜の深さ方向状態 評価と酸化膜厚評価_C0263
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【分析事例】めっき・塗装等の剥離原因調査_C0198
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【分析事例】XRDを用いた負荷印加前後における金属材の残留応力測定_C0682
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雰囲気制御下での処理
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【分析事例】クライオSEMについて
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【分析事例】有機EL素子の劣化評価
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【分析事例】有機EL素子中不純物の深さ方向分析
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【分析事例】マイクロサンプリング法
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三次元SEM観察法_Slice&View_A0045
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雰囲気制御&冷却下でのTEM分析_B0156
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【分析手法詳細編】Xe-プラズマFIBによる構造解析
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【分析事例】SiC基板におけるSSDP-SIMS分析_C0284
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【分析事例】有機薄膜太陽電池電極界面の状態評価および有機膜の分散状態評価_C0177
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雰囲気制御&冷却下でのSEM分析_B0159
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第一原理計算によるALD成膜における プリカーサ吸着シミュレーション
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【分析事例】Xe-PFIBを用いた広域断面のSEM観察
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