• ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • アドフォスNIR : 超近赤外線加熱装置 製品画像

    アドフォスNIR : 超近赤外線加熱装置

    樹脂・フィルムから金属まで、幅広い業界における加熱処理を劇的に短縮しま…

    アドフォスNIR(超近赤外線)とは・・・従来の赤外線とは一線を画す波長特性を持つ、ドイツ製超近赤外線加熱装置です。一般的な近赤外線が持つ波長帯域は、1.2~2μm(ピーク波長:1.2μm)であるのに対して、アドフォスNIRの波長帯域は、0.8~1.5μm(ピーク波長:0.85μm)。その波長帯域が持つ特徴として、金属などに対しては吸収性が高く、非常に強力な加熱力を持ちながらも、紙、樹脂フィルム、ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 松本金属工業株式会社

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