真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

粘着ラベル材料「高耐熱ラベル　ポリイミド基材」

6色の基材カラーにより製品管理を細分化！プリント基板ラベルへの応用に最…

PCB製造工程のはんだ付け工程においては、電子機器製造における無鉛イニシアチブ（RoHS）が制定され、各メーカーは銀やスズ、銅ベースのはんだ付けに移行しました。 これによりはんだ付け温度が従来の220℃レベルから260℃近辺に引き上げられ、最高280℃の温度にも耐えうるラベルが求められています。 エイブリィ・デニソンのポリイミド系ラベル基材は、これらの高温プロセスにも耐えるとともに、はんだ付け...

メーカー・取り扱い企業： エイブリィ・デニソン・ジャパン株式会社