【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『ＡＭＯＬＥＡ ＡＳ-３００』

PR『ＡＭＯＬＥＡ（アモレア）』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…

「地球」を考える「化学」の時代。ＡＧＣが提案する新製品！フッ素系溶剤『ＡＭＯＬＥＡ（アモレア）ＡＳ-３００』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数（ＧＷＰ）１未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…ＫＢ値４８の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

エッチング液　H-1000A

主成分：塩化第二鉄水溶液

自作基板のエッチングを簡単に行えるエッチング液...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

耐酸性レジストペン

アートワークの必需品

性に優れアートワーク用フィルムに良くなじみ回路作成が手早くできます。 ◆速乾性なので感光基板の現像処理後のパターン修正に最適です。 ◆耐酸性に優れておりカット基板に直接パターンを描きエッチングができます。 ◆◇◆詳細は資料請求またはお問合せ下さい◆◇◆...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

エッチング液　H-200A

主成分：塩化第二鉄水溶液

自作基板のエッチングを簡単に行えるエッチング液...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

エッチング液　H-20L

主成分：塩化第二鉄水溶液

自作基板のエッチングを簡単に行えるエッチング液...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社