•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R) 製品画像

    【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R)

    PRセラミックの中でも抜群の高熱伝導率性を有する窒化アルミ基板と特殊な発熱…

    ワトローウルトラミック(R)は、半導体や電気自動車(EV) 等の開発において、好適なパフォーマンスを提供する窒化アルミヒーターです。 高い熱伝導性、急速な温度変化への対応能力、高温時でも安定した電気的特性、そして正確な温度制御が可能な熱電対内蔵構造を持つ当ヒーターは、高度な熱処理ニーズに応えます。 【特長】 ○熱伝導性の高い窒化アルミ基板を採用 ○急速昇温(最大150℃/sec)・急速降温に対応...

    メーカー・取り扱い企業: 坂口電熱株式会社

  • 【プリント基板向けフラックス洗浄剤】VIGON A 200 製品画像

    【プリント基板向けフラックス洗浄剤】VIGON A 200

    低スタンドオフ部品の洗浄にも好適!防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能

    、インラインやバッチ装置のような、高圧・中圧スプレー 装置でご利用いただけるよう専用設計された水系洗浄剤です。 MPC テクノロジーを基に、様々なタイプのフラックス残渣を電子基板、 セラミック基板、パワーモジュール、リードフレームから除去することが可能。 ワイヤボンディングやコーティングなどの次の工程に向け、 高い清浄度要求を満たすことができます。 【特長】 ■ワイヤボ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【ベーパー洗浄向け フラックス洗浄剤】ZESTRON VD 製品画像

    【ベーパー洗浄向け フラックス洗浄剤】ZESTRON VD

    電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリート向け…

    ZESTRON VD は溶剤系洗浄剤です。 クローズド方式の一層式真空洗浄機において、電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリートからフラックスの残渣を取り除くことができます。 【特長】 ■溶剤系、幅広い種類のフラックスに対し優れた洗浄性 ■蒸留再生が可能、1チャンバー式真空蒸留・蒸気リンス工程に対応 ■1液にて浸漬洗浄・リンスも可能 ■界面活性剤非含有 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【準水系工程向け 溶剤系フラックス洗浄剤】ZESTRON FA+ 製品画像

    【準水系工程向け 溶剤系フラックス洗浄剤】ZESTRON FA+

    プリント基板・パワーモジュール・リードフレーム向け洗浄剤。幅広い用途に…

    ZESTRON FA+は電子部品、セラミック複合基板、パワーモジュール及びリードフレームからあらゆる種類のフラックス残渣を洗浄するため開発された溶剤系洗浄剤です。 優れた洗浄性を持ち、コンタミ許容量が高いため、非常に長い液寿命が特徴です。 【特長】 ■優れた洗浄力、長い洗浄液寿命 ■ハロゲンフリー・生分解性 ■パワーモジュール、リードフレームベースのディスクリート、パワーLED のワイヤボンディ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

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