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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃
PR有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。 固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)用セルと高温加熱(~ 1500℃)セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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日揚科技は用途に合わせて多様なタイプの真空バルブを供給しています。
真空バルブ「真空バルブシリーズ」は低真空から超高真空まで対応できます。ストレート(Y型及びZ型)バルブを使用する場合、配管を曲げなくでもバルブをうまく接続できます。日揚科技は用途に合わせて多様なタイプの真空バルブを供給しています。それらはアングルバルブ、ストレート(Y型及びZ型)バルブ、ボールバルブ、オートメートルバルブ、手動式と圧空式、またはベローズツキとベローズナキを選択できます。真空バルブを...
メーカー・取り扱い企業: 日揚科技股份有限公司
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「シングルゲートバルブ」と「デュアルゲートバルブ」をラインアップ!
当製品は、半導体製造装置のプロセスチャンバー用の真空ゲートバルブです。 カム駆動式による逆圧対応の「シングルゲートバルブ」と完全水平移動の為、 Oリングの擦れが無い「デュアルゲートバルブ」をラインアップ。 お客様ご要求仕様に基づくカスタマイズも承ります。 【特長】 〈デュアルゲートバルブ〉 ■完全水平移動の為、Oリングの擦れが無い ■左右の独立駆動によりPM/TMチャンバ...
メーカー・取り扱い企業: ナカンテクノ株式会社
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Max180℃まで任意の温度に設定可能!メンテナンス期間を大幅に延長で…
『UXG/LGシリーズ』は、半導体真空装置の反応炉とトランスファーチャンバー 間の仕切りを行うために開発した角型のゲートバルブです。 ボディはアルミニウム製で、複動式エアーアクチュエーターにより作動。 ヒーター付き仕様は固定されたボディに内蔵している外部ヒーターによる 加熱だけでなく、可動部である弁体内部にもヒーターを持ち、外部と内部 の両方から加熱することにより、高い均熱性能を...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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高加速寿命試験装置(HAST装置)『PC-422R9』
優れた性能を誇る二槽式構造のHAST装置。新型コントローラーを…
株式会社平山製作所 -
ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロ…
ユニテンプジャパン株式会社