真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

高加速寿命試験装置(HAST装置)『PC-422R9』

PR優れた性能を誇る二槽式構造のHAST装置。新型コントローラーを搭載し、…

『PC-422R9』は、試験槽と蒸気発生槽が完全に分離独立した高加速寿命試験装置(HAST装置)です。 高精度温湿度プログラムコントローラーを搭載し、HAST装置としてより高精度な加速評価を実現。また、外部端末と連携した遠隔操作も実現し、簡単に監視・操作ができます。 【特長】 ■新型温湿度プログラムコントローラーで、高精度な加速評価を実現。 ■対話式カラータッチパネルで、より操作性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社平山製作所

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の 有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により 　MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により 　イオン加速が可能...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社