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    竪型二軸スクリューポンプ GemiL

    PRあんこ・おからなどペースト状食材をエアロックなしで安定移送。省人化・自…

    『竪型二軸スクリューポンプ GemiL』は、固形物や ペースト状食材などを安定して移送できる製品です。 高い自吸性能を持ち、エアロックや目詰まりを防止。スクリュー同士が接触せず、 ポンプ内壁とも接触しない“非接触回転式”により、摩耗による 異物混入のリスクを抑制し、食品の風味や食感を損なわずに移送できます。 また、追加の洗浄ポンプなしでCIP洗浄が可能なほか、 省スペース設計で...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニクニ 本社、本社営業部、大阪営業所、名古屋営業所、福岡営業所

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    ミストシステム導入のご提案

    PR温度対策や湿度管理が可能!噴霧エリアの気温をおよそ2~4℃低下させる効…

    『ミストシステム』は、微細霧(ミスト)の気化熱を利用して気温を下げたり 加湿したりする自然に配慮した製品です。 高圧ポンプを利用してミストノズルから空中に大量のミスト粒子を噴霧し 水が蒸発する時に空気中の熱量を奪うことによって気温を下げます。 間欠運転やセンサーによる監視である程度の温度管理や湿度管理も可能。 ミスト粒子を空気中に放出すると空気中の熱を奪い対流を起こすと共に ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社洲本整備機製作所

  • □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    0ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. *その他のMin...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』 製品画像

    真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    ◉寸法:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    (最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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