アルミナ研磨剤　バイカロックスＣＲ（ＢＡＩＫＡＬＯＸ　ＣＲ）

極めて均一でロットばらつきが少ない特徴を持っております。

フランス　バイコウスキー社は０．０５μｍ以下のガンマーアルミナ超微粉、 0.1～３．０μｍ範囲のアルファーアルミナ微粉、マグネシア微粉等を種々の用途に対して供給しております。 それら全ての粉末は通常の研磨材の製法のように粉砕、分級の工程を用いず、 独特の製法にて粒成長条件のコントロールにより粒度を調整しております。 【特徴】 ○粉体研磨材・液体研磨材ＣＲの名称は非凝集タイプ。 ○凝...

メーカー・取り扱い企業： 鈴幸商事株式会社

ユニメック『ダイアタッチ剤』

登録商標「ユニメック」の熱硬化型導電材料のご紹介

『ダイアタッチ剤』は、ベアチップのダイボンド用、LEDの接着及び電極と リード線の接着、高熱伝導用など、多目的に対応した熱硬化型の導電材料です。 当社の商標「ユニメック」は、エポキシ樹脂を主体とした熱硬化性樹脂に、 特殊処理の自社加工導電粉末を均一分散させた低温処理可能な導電材料です。 導電粉末の開発･ブレンドによってさまざまな特性をもつ製品の製造が可能です。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： ナミックス株式会社

CMPスラリー(化学的機械的液体研磨剤)

異種材料が混在する半導体基板の平坦化について、お客様のニーズに対応した…

当社はCMPスラリーを開発・製造しております。CMPとはChemical Mechanical Polishingの略で、化学的に溶解させながら機械的な除去、研磨を行います。付与する化学的作用は削りたい物質の化学的な性質に依存します。 半導体銅配線用CMPスラリーは、先端デバイスの銅配線用として量産しており、大手エレクトロニクスメーカー様からパートナーとしての認定をいただくなど、高い信頼を得...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トッパンインフォメディア

鏡面加工用 超微粒ホイール『ナノエーラ』

目詰まりを解消する機構により、切れ味を維持して加工能率低減を抑制します…

『ナノエーラ』は、サブミクロン原材料を高分散配合し、チッピングおよび、 スクラッチの抑制ができる鏡面加工用 超微粒ホイールです。 加工しながら目詰まりを解消する機構で、切れ味を持続して加工能率低減を抑制。 適度な自生作用によりノードレス加工を実現しました。 【特長】 ■サブミクロン原材料を高分散配合 ■加工しながら目詰まりを解消する機構 ■ノードレス加工を可能にした粒子配列 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニートレックス 【販売本社】

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酸、弗化アンモニウム溶液、塩酸、硝酸、硫酸、過酸化水素水 ■混酸類 　TH-H、NC-1C、エッチング液（SiO2,AI,Mo,Ti,etc） ■CMPスラリー 　W,Cu用スラリー、各種分散剤 ■界面活性剤 　帯電防止剤、濡れ向上剤、E/R抑制剤 ■その他 　レジスト剥離液（PUMS/HP-73KR）、NMP、受託分析業務 【容器、荷姿】 ■小型PE容器（1～20kg程...

メーカー・取り扱い企業： 弘田化学工業株式会社 東京工場