• 混合・配合・分散・均一溶解のお悩みございませんか?※受託加工可能 製品画像

    混合・配合・分散・均一溶解のお悩みございませんか?※受託加工可能

    PR加工設備として、小型及び大型攪拌機・粉体混合機・ホモミキサーを保有して…

    当社では、「混合・配合・分散・均一溶解技術」について多くの知見を蓄積しています。 また、捺染用薬剤やインクジェットプリント用前処理剤を開発してきたことにより 加工剤の性状、特に、粘度や粘性等の調整も得意としております。 加工設備として、小型及び大型攪拌機、粉体混合機そしてホモミキサーを持っていますので、 「混合・配合・分散・均一溶解」において、様々なご要望に応えることが可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 古川化学工業株式会社

  • 3Dプリント受託造形サービス『DMM.make 3DPRINT』 製品画像

    3Dプリント受託造形サービス『DMM.make 3DPRINT』

    PR多様な素材と高性能な3Dプリンターを保有。累計850万部品以上の造形出…

    『DMM.make 3DPRINT』は、累計850万部品以上の造形・出荷実績があり 累計1,700社以上にご利用いただいた3Dプリント受託造形サービスです。 (シェル数を部品数としてカウント。2024年8月19日時点の実績です。) 幅広い素材と高性能な3Dプリンターで、複雑かつ大型の造形にも対応。 価格を抑え、かつ高い品質を実現すべく、エンジニアが造形を行っています。 スピード納品を心掛けてお...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社DMM.com DMM.make 3Dプリント事業部

  • CZウェーハ エピ受託加工 SiGeエピウェーハ 他 製品画像

    CZウェーハ エピ受託加工 SiGeエピウェーハ 他

    小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…

    「エピウェーハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 *直径: 100-200 mm *Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous *Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm *Epi厚: 1-150 um *Stacking fault: 10 /cm2 以下 *Thickness Uniformity: ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 3インチ~12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」 製品画像

    3インチ~12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」

    3インチ~12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

    CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径:3インチ~12インチ SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) SiO2(酸化膜)層:0.5-2um程度(0.1-10umも対応可能) 支持基板:300-725um程度(直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) *仕様によります...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウェーハ」 製品画像

    1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウェーハ」

    1インチ以下~450mmまで提供が可能です。各種成膜加工、FZウェーハ…

    弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウェーハ・ダミーウェーハ、太陽電池用単結晶シリコンウェーハ・太陽電池用多結晶ウェーハ・SOIウェーハ・拡散ウェーハなどを取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウェーハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウェーハにEPI成膜を行ったり、SOIウェーハへの加工など...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 3校_0917_jilc_300_300_2000002.jpg
  • 0917_kslynx_300_300_2004595.jpg

PR