【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』

PR±0.5％以下の測定精度で、水質管理の信頼性を向上。評価結果などの紹介…

『UPW UniCondセンサ』は、大手半導体メーカーとの共同開発により 堅牢な構造と高度な温度補正機能を備えた比抵抗計です。 環境温度やプロセス温度の変化による測定値の変化や 信号ノイズを防ぎ、高い温度補償比抵抗精度を実現。 半導体分野における水質の正確な把握と歩留まりの向上に貢献します。 【特長】 ■±0.5％以下の測定精度を実現 ■ノイズと水質変化による干渉を区別し、高...

メーカー・取り扱い企業： メトラー・トレド株式会社

TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ

太陽電池の製造など、重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮する電力供給…

2）シリーズ』は、美しい光学コーティングを 可能にするプラズマ電源です。 難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。 このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど 重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。 【特長】 ■きわめて小さなアークエネルギー ■超高速デジタル制御プラットフォーム ■逆電圧は調整可能 ...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ

数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性！当社の電力供給装置を…

に専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング （スパッタリング前処理）や半導体用途（トレンチ充填）にも 利用できます。 【主な利点】 ■飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減 ■コンパクトな寸法、容易なシステム統合 ■既存の陰極およびプロセス要件に簡単...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ

波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

『TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパ...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

エレクトロニクス総合カタログ TruPlasmaシリーズ

幅広い用途に使われるプラズマ電源！トルンプがお客様個別の要件にお応えし…

【対象セクター】 ■ガラス産業 ■太陽電池産業 ■自動車産業 ■フラットパネルディスプレイ産業（FPD産業） ■半導体産業 ■化学産業 ■化学・研究機関 ■製造業 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社