独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

炭化珪素発熱体（SiC) 　カンタル・グローバ

発熱体温度1000℃〜1650℃。高品質な炭化珪素発熱体

○耐腐食性、耐アルカリに優れた高性能タイプ （グローバAS、グローバHD）もございます。 ○形状は棒状からW型、M型、らせん形状のものまで製造可能です。 ○実験用途の短く細いものから、大型ガラス製造用の太く長いもの （φ55-全長5m）まで十分な実績がございます。 ○標準納期は3-4週間ですが、短納期への対応も行っております。 ○使用電力量5％削減の省エネタイプを2009年7月に...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー