高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中

PR【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…

『HND-RA』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85％の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0～1.0、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サタコ

半自動メタルマスク製版装置『CombiMaster』

PR製版作業の半自動化で生産性アップ、生産コスト削減。専用接着シールは低環…

半自動メタルマスク製版装置『CombiMaster』は、 製版作業時に接着剤を手作業で塗る工程を半自動化でき、 生産性の向上、省力化・省人化に貢献する製品です。 専用接着シールにより、洗浄耐久性の向上につながるほか、 揮発性物質を使用しておらず、作業環境の改善に貢献。 メタルマスクの生産にかかるコストを削減することができます。 【仕様】 設備サイズ：2500×900×19...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MkFFJapan

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社