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半導体後工程用治具(治工具) ~マガジン・ダイシングリング・他~
PR40年で約100社を超える採用実績とノウハウでオーダーメイド提案します…
当社はUACJグループで「材料調達」から「製品完成」までを担う会社です。 電子部品や半導体製造のダイシングからワイヤーボンディング、モールドまで一連の工程で使用される治工具を様々なお客様へご提供しております。40年に亘る【国内生産】の安定した品質・ワンストップ供給、蓄積してきたノウハウを用いお客様の困りごとに対してご提案させて頂きます。 【採用事例】 ・マガジンのコストダウン(組立タイプのマガジ...
メーカー・取り扱い企業: UACJグループ 泉メタル株式会社
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PR金型メーカーの業務プロセスのフロントローディングで作業工程ロス削減と労…
金型の設計製作を手がける南工株式会社(広島市佐伯区)は、同社が手がけるパネルクオーター用金型は部品サイズが大きいことから、 成型シミュレーションの解析時間が長くなり、最終行程まで十分に評価を行えない課題があった。 AutoFormの導入後は最終工程まで解析できるようになり、最終フランジ工程で発生する縁割れを把握でき、材料流入を調整することで 縁割れを防止できた。手戻りによる作業工程のロスを削減し、...
メーカー・取り扱い企業: オートフォームジャパン株式会社
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照射欠陥やアニールによる結晶性の回復を確認することが可能です
窒化ガリウムGaNは、熱伝導率が大きい点や高耐圧といった特性のため、LEDやパワーデバイスなどの材料として用いられます。その製造工程では、結晶欠陥の無い高品質なGaN結晶の作製が求められるため、イオン注入などによるダメージやその回復度合いの確認は重要な評価項目となっています。 本資料ではXAFSによってGaN基板へのイオン注入...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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金属成分と有機成分を同時に評価可能です
2)。また、付着物と正常部・汚染源のマススペクトルを比較し、付着物は汚染源の金属(Cr)成分・有機物成分と一致していることがわかりました。 TOF-SIMSにてベベル部(端面と傾斜面)の汚染の発生工程を捉える事が可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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TOF-SIMSを用いた最表面の汚染源の特定
プロセスで発生したかを調査することができます。 ウェハや製品上に異常箇所(変色・付着)が見つかったとき、TOF-SIMS測定を行うことで、洗浄・乾燥に起因するウォーターマークか、母材の変質物か、別工程での付着物かを切り分けることができ、不良原因追求に有効です。...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能
半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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製品開発のトータルコーディネートが可能!LSIパッケージの設計・評価解…
ーションに基づく 好適構造のご提案までいたします。 【特長】 ■当社から好適な解析手法、解析ステップをご提案 ■評価解析結果の報告だけでなく、故障原因の推定まで実施 ■解析結果から発生工程の絞り込みや、構造最適化に向けた解析をご提案 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社Wave Technology
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微小特定箇所の無機成分・有機成分を同時に測定
TOF-SIMSには有機物、無機物の同時評価、微小領域に対応、最表面を感度よく分析できるなどの特徴がありますので、洗浄工程での残渣調査などに力を発揮します。 Siウェハ上で純水を乾燥した事例を紹介します。光学顕微鏡では点状の異物や曇りがわずかに見えるだけです。TOF-SIMSで測定した結果、汚れ部では、炭化水素、PD...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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特注合成の事例をご紹介!より費用を抑えるためのヒントとしてご参考下さい…
少しでも安価、単納期でご満足頂ける契約に近づくよう、ご相談させてください。 技術資料お求めの方はお問合せボタンをクリックしてください。 【事例(一部)】 ■合成例:ジアミンとカルボン酸を1工程既知合成法 3mg目標得量合成 ・ケース1:市販ジアミンとの反応 ・ケース2:当社製品ジアミン(SCHEM01417)との反応 ・ケース3:当社製品ジアミン(SCHEM01417)3mgご購入...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社新成化学
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スワブ法によるドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム溶液を用いた回収率試…
製薬業の製造設備における洗浄工程は、汚染や異物混入を防止する観点から 極めて重要なプロセスであり、洗浄後の残留物が許容限度以下であることを 確認するために洗浄バリデーションが実施されます。 洗浄バリデーションにはリンス法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社HIRANUMA
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