• 脱炭素化技術に挑戦!熱技術研究所のご紹介【2024最新情報!】 製品画像

    脱炭素化技術に挑戦!熱技術研究所のご紹介【2024最新情報!】

    PR開設1周年!約80社のお客様にご来場いただきました。水素燃焼ガスバーナ…

    2023年5月に開所した「熱技術研究所」、この一年で数多くのテストを行ってまいりました。 ~テスト設備概要~ ◇アルミ手許溶解保持炉 水素燃焼溶解による「溶湯品質」「溶解効率」を検証テストが可能。実機ベースのアルミ溶解炉です。 溶解能力:150kg/h 溶解:水素燃焼ガスバーナー 保持:電気ヒーター ◇塗装乾燥炉(試験設備) 実際の生産現場と遜色ない設備を使い、4 つの熱源でテストが可能...

    • 240401 水素ガスバーナーによる燃焼.png
    • 高温テスト炉.jpg
    • MNB.jpg
    • QCO.jpg
    • QCO2.jpg
    • デモ機.jpg
    • 火炎.png
    • 研究所.png
    • MAP.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社正英製作所

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

    • gisan.png
    • images2021040516155314.png
    • screen2.jpg
    • images2021052016285434.gif

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 製品画像

    水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)

    大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

    水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg
  • 修正デザイン2_355337.png

PR