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87件 - メーカー・取り扱い企業
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PR自家消費型の太陽光発電で脱炭素化・コスト削減に貢献。導入から運用・メン…
『太陽光発電オンサイトサービス』とは、太陽光発電で発電した電気をご使用いただくことで、 脱炭素・コスト削減につながるサービスです。 初期費用ゼロで、導入時の工事から導入後の運用・メンテナンスまでワンストップでおまかせ いただけます。 無料進呈中の事例集では、実際にサービスをご利用いただいている企業様の声をご紹介しております。 以下の「PDFダウンロード」からご覧ください。 ...
メーカー・取り扱い企業: 関西電力株式会社
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PRアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ABS樹脂の接着剤として、実績多数…
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂(PC)、ABS樹脂の接着で、塩化メチレンなど、塩素系溶剤の代替品としての採用実績が多くございます。 消防法、有機則、特化則、毒劇法のいずれも非該当と法規制が少なく、安全性にも配慮した新しい臭素系溶解剤(接着剤)です。どうぞお試しください。 【カネコ化学の『eソルブ21RA-1』の主な特長】 (1)アクリル樹脂、PC樹脂、ABS樹脂の接着剤、溶解剤と...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カネコ化学
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【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析
Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ(CC…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置
長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP
Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D
「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理
代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析
Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン
カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scatterin...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…
基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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エンジンやトランスミッション等の油圧回路だけでなく、モーターやバッテリ…
れ(亜音速) ■キャビテーション ■流れ場(速度ベクトル、 圧力)、 流量、 流体力、 トルクの時間変化 最近では、自動車用のモーターの油冷解析の案件が増えており、他のCFDソフトでVOF法を解くと、 ・解析時間がかかりすぎる ・細かい計算メッシュを切るのが厳しい ・発散してしまい収束しない というご相談が寄せられています。 開発元のモーター油冷に関するSAE発表...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』
『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業…
AGC株式会社 化学品カンパニー -
ロストワックス精密鋳造 設計ガイド 全ページ(無料プレゼント)
ロストワックス(精密鋳造)ノウハウとして精度、材質、大きさ、肉…
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脱炭素を目指す『出光カーボンオフセットfuel(ICOF)』
燃料油を使用しながらCO2排出量のオフセットが可能!カーボンク…
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【お役立ち資料】今さら聞けない表面処理DLCの基礎知識※資料進呈
金属、樹脂、ゴムなどの長寿命化や耐久性向上を検討の方へ。DLC…
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【書籍】プラスチックのリサイクルと再生材の改質(No.2238)
【試読できます】】先行企業、自治体、業界団体のプラスチックリサ…
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東邦ガスグループ『無料ウェビナー』開催のお知らせ
カーボンニュートラル実現に向けた取り組みを支援する当社のサービ…
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1D CAE による熱設計向けシミュレーション【解説資料を進呈】
構想設計など設計上流段階で有効な1D CAEを活用した熱解析を…
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半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】
どんな複雑なサファイア加工依頼にも挑戦します。1個からでもお気…
株式会社信光社 -
「画像処理外観検査」導入の小冊子 ※技術資料&提案事例2冊進呈中
今さら聞けない画像処理検査装置の仕組みや導入にあたっての注意点…
株式会社エーディーディー