• フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】 製品画像

    フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

    PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

    本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

    • IMG_1471.JPG
    • IMG_1470.JPG

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

    • gisan.png
    • images2021040516155314.png
    • screen2.jpg
    • images2021052016285434.gif

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 【動画あり】密閉系で安全に液体をサンプリング 製品画像

    【動画あり】密閉系で安全に液体をサンプリング

    異物混入を防ぎながら、物性を変えずに液体のサンプリングが可能です。反応…

    04)、 ハステロイ、 モネル、 Tantal、Titane、ジルコニウム、ステライト、PFAラインなど 使用温度:  -40 to 350°C ( -40 to 660°F ) 使用圧力:  真空側 ~ 16Mpa 他のサイズ、材質等ご相談ください!...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社樋口商会

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg

PR