• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 結晶方位の影響を解析するシミュレータ 製品画像

    結晶方位の影響を解析するシミュレータ

    GaN基板デバイスの光特性に対する結晶方位の影響を解析するツール

    結晶方位(crystal orientation)と分極(polarization)について解説。任意の結晶方位での量子井戸(QW)を解析するためのk.p.法(k.p. method)など、結晶方位の影響を探るための物理モデルの紹介。異なる結晶方位での光利得(optical gain)、c-planeとm-planeでの結晶方位の影響の比較、有限要素シミュレーション(finite-element sim...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • フォトニック結晶レーザの3Dシミュレータ 製品画像

    フォトニック結晶レーザの3Dシミュレータ

    フォトニック結晶半導体レーザの3次元解析ツール

    クロスライトの3次元TCADはフォトニック結晶半導体レーザ(PhCLD)解析のためのFDTDおよび電気-光シミュレーション環境を統合。クロスライトの3次元TCADは電気的ポンピングPhCLDをデザイン、最適化するためのツール。ユーザーフレンドリ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 有機金属気相成長法による結晶成長シミュレータ 製品画像

    有機金属気相成長法による結晶成長シミュレータ

    化合物半導体の有機金属気相成長法の数値シミュレーション解析ツール

    有機金属気相成長法(MOCVD)のプロセスシミュレーターPROCOM(プロコム)の事例を紹介。PROCOMは、流体力学(fluid dynamics)や質量(mass transport)および熱輸送(heat transport)、さらに非平衡ガス-ガス(non-equilibrium gas-gas)または非平衡ガス-表面(non-equilibrium gas-surface)化学反応(ch...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 半極性InGaN半導体レーザのシミュレータ 製品画像

    半極性InGaN半導体レーザのシミュレータ

    半極性のInGaN半導体レーザの解析ツール

    結晶座標系、ひずみや応力などを考慮したモデリングのアプローチを紹介。LASTIPでの2次元計算を例に、内部電場を伴わない光利得(optical gain)など半極性と非極性とc面(c-plane)で比較。結晶成長方向を考慮したウルツ鉱型MQWデバイスに対するk.p.理論に基づいたモデルはAPSYS、LASTIPとPICS3Dに搭載。...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 量子ドットデバイスの3Dシミュレータ 製品画像

    量子ドットデバイスの3Dシミュレータ

    量子ドットデバイスの3次元解析ツール

    取りこむ手順を経る。微視モデルは様々な矩形や円柱状の3次元量子ドットが可能。ひずみ効果(strain effect)も考慮。GaN基板のウルツ鉱構造(wurtzite structure)も亜鉛鉱型結晶構造(zincblende structure)と同様に適用可能。巨視的なモデルにおけるバンド図(band diagram)、PLの計算果と実験の結果比較、光利得スペクトル(optical gain...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • Siのひずみに対するQWモデルシミュレータ 製品画像

    Siのひずみに対するQWモデルシミュレータ

    ひずみ持ったMOSFETの量子井戸の解析ツール

    uantum corrections)をした移動拡散方程式(drift-diffusion equations)の自己無撞着解(self-consistent solution)が可能。様々な応力や結晶方向のひずみを持つシリコンMOSFETの特性が予測可能。...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 高応力GaNデバイスの研究ツール 製品画像

    高応力GaNデバイスの研究ツール

    高応力GaNデバイスの研究ツール

    高応力(higly stressed)がかかるGaN多重量子井戸(MQW)の理論モデルを解説。クロスライトのデバイスシミュレーターでシリコン上に任意の結晶方向(crystal orientations)に成長したGaNデバイスLEDについて次のような結果を得ることが可能。シリコン基板からの張力(tensile)は多重量子井戸(MQW)のバンドギャップ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • フォトニック結晶LEDのデバイスシミュレータ 製品画像

    フォトニック結晶LEDのデバイスシミュレータ

    フォトニック結晶LEDのデバイスモデリングと解析ツール

    フォトニック結晶LED(PhCLED)のモデリングのポイントや解析事例を紹介。DBRを持ったフォトニック結晶LEDを題材にしたシミュレーションを検討。(2D/3Dドリフトディフュージョンモデル(drift-diff...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

1〜8 件 / 全 8 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2405_300x300m_azx_me_ja.jpg
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg