• 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター 製品画像

    RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

    各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

    RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置(CVD, MBE, PVD等)や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等)に対応可能。 4) 従来...

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    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置  製品画像

    RIBER社 分子線エピタキシー(MBE)装置

    パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

    パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

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