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PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…
『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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PR【多数導入実績あり】必要に応じた濃度のアンモニアの回収が可能な装置のご…
アンモニア除去・回収装置は、廃水中のアンモニアを放散回収する過程で使用される装置です。 これにはスチームで放散する方法と空気で放散する方法があります。 アンモニアは、用途に応じた濃度のアンモニア水、もしくはアンモニアガスとして回収することが出来ます。 硫安として回収することも可能です。 触媒を組み合わせることで放散させたアンモニアを分解させ、無害化することも可能です。 【特長】 ■必要濃度でア...
メーカー・取り扱い企業: 第一エンジニアリング株式会社
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真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! 最大8インチまでのウ…
★ 真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! ★ 最大8インチまでのウェハリング対応! ★ 窒素パージ不要でランニングコスト削減! ★ 工程ウエハ処理に最適! ・酸素濃度を真空環境にして UV照射すれば硬化不良を低減 ・デバイス直下のボイドも真空環境により除去 大気圧(10万Pa)での酸素濃度(約20%) 本機真空チャンバー圧(5Pa)での 酸素濃度⇒ 0.001%◇ 主要...
メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社
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12インチリング付きウェハ処理が可能! 表面改質、無機物/有機物汚染…
★ 12インチリング付きウェハ処理が可能! ★ 表面改質、無機物/有機物汚染除去! ★ 量産前の評価、研究に最適! ★ 高速、低価格 ★ 様々なオプション機能 ★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可 [ 主要性能] ・到達圧力:6.0Pa以下(ガスバラスト閉時) ※最大排気速度500L/min ドライポンプを使用 ・リークレート:1.07 Pa/min以下 ※ビルドア...
メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社
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