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    第三の光加熱源!LEDアニール装置

    PR加熱効率向上で省エネルギー化!高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

    『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が...

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    メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社

  • 【導入事例】横河マニュファクチャリングの製造現場をAIで作業解析 製品画像

    【導入事例】横河マニュファクチャリングの製造現場をAIで作業解析

    PR【導入事例無料進呈】AIを使って世界6大メーカー工場の組立工程の効率化…

    製造業界が直面する重要課題に対し、横河マニュファクチャリング株式会社はコーピーの作業解析AIを導入し、顕著な成果を上げました。 本導入事例では、その詳細なプロセスと具体的な成果について紹介しています。 【解決した課題】 1.業務の属人化 2.人財育成と技術継承の問題 3.作業員の負荷 4.品質のばらつき 【導入効果の一部をご紹介】 1.工程異常の早期発見: コーピーのAI技...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コーピー 本社

  • 【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

    ◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉…

    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃ 製品画像

    【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【マグネトロンスパッタリングカソード】 製品画像

    【マグネトロンスパッタリングカソード】

    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率

    【特徴】 ・高真空対応 ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高強度マグネット、などのオプションが豊富 ・各種フランジサイズ接続に対応...【主仕様】 ■RF, DC, パルスDC対応 ■ターゲット厚さ:1/16...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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