リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

工業用ブラシ『AHシリーズ』

優れた防塵、防屑効率！ナイロン612(静電気防止素材)を別途指定可能な…

当社が取り扱う、工業用ブラシ『AHシリーズ』をご紹介します。 ナイロン66を標準素材としており、ナイロン612(静電気防止素材)を 別途指定可能。高密度のブラシは優れた効率での防塵、防屑の クリーニング機能を備えています。 標準ブラシの長：10,15,20,25,30,35,40,45,50,55,70,75,90,100,150/mm,...

メーカー・取り扱い企業： 明光産業株式会社