【新製品】小型・軽量！充電式ベルトサンダ「ベルトンCLB-10」

PR約1.4kgで片手操作が可能な小型コードレスベルトサンダ！電源の取れな…

「ベルトン CLB-10」は、小型・軽量なコードレスタイプの充電式ベルトサンダです。 18Vバッテリ採用でパワフルな研削を実現し、5.0Ahの大容量バッテリも使用可能です。 ベルトの回転速度が6段階で調整可能。 また、コードレスシリーズ初のベルト回転方向切替機能搭載で、 切粉の飛散方向が変更できます。 押し当て調整アラーム機能により過負荷状態はLEDが点滅するため、 削り過ぎを防止します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日東工器株式会社

【システム導入事例】製造業10社の事例大公開！

PR製造業10社のリアルな課題と生産管理システムの導入事例をご紹介！課題解…

製造業DX「製造業10社の事例大公開」は、 一般製造業はもちろん、鋳造業・繊維業等、幅広い業界の課題と 当社のシステム導入効果についてご紹介しております。 【資料概要】 ・製造業の事例10社 ・システム導入前の課題 ・システム導入後の効果 ・今後のDX化への展望等 【こんな課題を抱える企業様は必見！】 ・現場のDX化に課題がある ・過去にシステム導入での失敗がある ・同業種の事例を知りたい ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモサミット

表面処理加工【異物の付着防止に貢献】

【受託コーティング加工】AFM・STM用プローブに自社開発の有機ナノ薄…

さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：AFM、STM用プローブ ■目的：異物の付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

防汚・メンテナンスの向上に！スキャナ用ガラス向けコーティング加工

刃物での切断作業によくある「シリコン離型剤が使えない」「糊の付着」「薄…

用しているが、ユーザーによってはシリコンを使用出来ない。 ■フッ素コートを使いたいが膜厚が厚くて薄い刃先に使用出来ない。 有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」なら、離型性の高い膜厚10nm以下のフッ素薄膜を刃物に処理することが出来る為、上記のような課題をクリアすることが出来ます。 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

タッチパネルの防汚・耐指紋性に！独自技術のフッ素コーティング加工

【受託加工】タッチパネルへ「汚れ（耐指紋）付着防止」機能を付与！テスト…

が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：タッチパネル ■目的：汚れ（耐指紋）付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

撥水処理技術「有機ナノ薄膜表面処理技術　NANOSナノス」

【受託加工】ガラス・金属等に撥水・撥油などの機能を受託コーティングにて…

することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

フッ素コート加工【レジストの付着防止に】＜フォトマスク向け＞

【受託加工】フォトマスクへ「レジストの付着防止」機能を付与！テスト可能

影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：フォトマスク ■目的：レジストの付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

防汚処理技術「有機ナノ薄膜処理NANOS」＜スキャナ用ガラス＞

スキャナ用ガラスへ「汚れ付着防止・メンテナンスの向上」機能を付与！テス…

め、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：スキャナ用コンタクトガラス ■目的：汚れ付着防止、メンテナンスの向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

離型剤不要！凹版など転写プロセス用治具の転写性UP可能な表面処理

【表面処理加工】転写プロセス用治具の転写性を向上させる表面処理技術『N…

のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：転写プロセス用治具（凹版など） ■目的：転写性向上（離型剤レス） 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

表面処理技術｜インクジェットヘッドの滑り性UPで印刷性の向上に！

【受託加工】インクジェットヘッドの滑り性・耐久性で困っていませんか？独…

影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：インクジェットヘッド ■目的：印刷性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

はんだ印刷用メタルマスの印刷性向上＆メンテナンスの軽減に！

【受託コーティング加工】はんだ印刷用メタルマスの滑り性・防汚性を独自技…

のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：はんだ印刷用メタルマスク ■目的：印刷性向上、メンテナンスの軽減 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

薄膜表面処理加工｜スタンパ金型の離型性向上＆タクトタイムの短縮に

【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…

、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：スタンパ金型 ■目的：離型性向上、タクトタイムの短縮 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

ナノインプリント用金型の離型性＆微細形状への追従性を高めたい方に

ナノインプリント用金型へ「離型性向上、微細形状への追従性を高める」機能…

、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：ナノインプリント用金型 ■目的：離型性向上、微細形状への追従性を高める 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

光学部品用『金型』に有機ナノ薄膜表面処理で離型性の向上を実現！

【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術…

への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：光学部品用金型 ■目的：離型性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部