• ロータリー式超音波シールユニット Soniseal 40UL 製品画像

    ロータリー式超音波シールユニット Soniseal 40UL

    PRクリーンで安全な超音波シールの超音波ユニットをアンビルと同期して回転さ…

    DUKANE-AURIZONのロータリー式超音波シールユニットは、超音波ユニットをアンビルと同期しながら回転させることにより、よりスムーズな送りが実現され、最大150m/分の加工速度と、安定した品質を得ることが出来ます。 従来のヒートシールと比較し、高温になる個所がないため安全性が高く、装置の電源をオンにしてすぐに生産開始ができますので、生産性も向上します。 ユニットは縦置きでも横置きでも使用...

    • AU_MG_1058-40-UL-TRANS-468x468-1.png

    メーカー・取り扱い企業: デュケインジャパン株式会社

  • 常温から約150秒で1200℃に!高速高温カートリッジヒーター 製品画像

    常温から約150秒で1200℃に!高速高温カートリッジヒーター

    PR短時間で1200℃まで上昇!加工時間の短縮、生産性の向上に貢献する高速…

    『STC-1200-HS』は、常温から約150秒で1200℃に到達する高速高温カートリッジヒーターです。 高温になるまで時間がかかると、加工時間や生産量にも大きく影響します。 当製品は非常に短時間で高温に達するため、 これまでの熱処理工程のスピードを上げ、生産性の向上に貢献します。 過酷な条件下でフルに実力を発揮し、皆様に喜んでいただけるものと 確信いたしております。 その他、様々な高温ヒー...

    メーカー・取り扱い企業: 三洋熱工業株式会社

  • 【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch 製品画像

    【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

    プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

    *旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント: ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3(炭化珪素)コーティンググラファイト Ma...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    全自動運転(手動も可能)〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源) ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ2inch、4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃)オプション ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    PC用付属ソフト(IntelliLink)で装置モニター、データロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx最大3 ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ:〜4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃) ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統増設:N2, O2...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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