• 集塵装置内蔵切断機 アルミ形材用切断機『UCA-400DC型』 製品画像

    集塵装置内蔵切断機 アルミ形材用切断機『UCA-400DC型』

    PR簡易集塵装置をビルトインした省エネ&コンパクト切断機 。 …

    狭い場所に設置出来る 溜まった切粉はワンタッチで回収が行える切断機。 小型サイクロン搭載のアルミ形材切断機UCA-400DC型のご紹介です。 「溜まった切粉の掻き出しに時間を掛けたくない」 「集塵機を置きたいがスペースが無い」 「集塵機も導入したいが予算が無い」 など   UCA-400DC型は、お客様の声から生まれた切断機です。 別置き集塵機の十分の1...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奥村機械製作所

  • 『積載荷重600kg・1000kg対応』小型ターンテーブル 製品画像

    『積載荷重600kg・1000kg対応』小型ターンテーブル

    PR今までの3ton仕様 (ISB-S型)より軽荷重かつ安価な製品としてラ…

    お客様よりお問い合わせが多かった製品を標準品としてラインナップ致しました。回転式作業台やコンベヤの方向転換、ディスプレイや撮影用として使用されています。 ■回転速度:Φ600 1~6r.p.m(速度調整可能)       Φ1000 1~7r.p.m(速度調整可能) ■アンカーで固定したり、簡易的であればそのまま置いて使用できます。 ■フットスイッチなどのオプション品などもあり...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社井口機工製作所 本社

  • 【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch 製品画像

    【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

    プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

    *旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント: ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3(炭化珪素)コーティンググラファイト Ma...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    全自動運転(手動も可能)〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源) ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ2inch、4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃)オプション ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    PC用付属ソフト(IntelliLink)で装置モニター、データロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx最大3 ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ:〜4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃) ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統増設:N2, O2...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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