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PRERP、運動時、睡眠時の計測に好適!バッテリ残量など、本体全面をLED…
『APEX』は、ERP、運動時、睡眠時の計測に好適な超小型24ch/32ch対応の 脳波計測装置です。 アナログ帯域はDCから350Hz。リファレンスチャンネルはカスタム可能です。 また、32ch/64chの脳波&多点筋電対応のモバイルタイプの計測装置 「SAGA」もご用意しております。 【APEX仕様(抜粋)】 ■チャンネル数:24ch/32ch ■解像度:24bit ...
メーカー・取り扱い企業: ゼロシーセブン株式会社
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ロータリー式超音波シールユニット Soniseal 40UL
PRクリーンで安全な超音波シールの超音波ユニットをアンビルと同期して回転さ…
DUKANE-AURIZONのロータリー式超音波シールユニットは、超音波ユニットをアンビルと同期しながら回転させることにより、よりスムーズな送りが実現され、最大150m/分の加工速度と、安定した品質を得ることが出来ます。 従来のヒートシールと比較し、高温になる個所がないため安全性が高く、装置の電源をオンにしてすぐに生産開始ができますので、生産性も向上します。 ユニットは縦置きでも横置きでも使用...
メーカー・取り扱い企業: デュケインジャパン株式会社
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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …
列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ300mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=450℃>200℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
700mm ■装置重量:約55kg ■有効対象物サイズ(WxD):100 x 100mm ■加熱方式:IRヒーター ■最大到達温度:1200℃ ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/sec. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):190K/min.(T=1200℃>400℃) ■冷却方式:窒素ガスパージ方式 ■真空到達度:10-1Pa ※HVモデルは 10-3Pa...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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加熱乾燥工程の自動化に最適!放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢…
【仕様】 ■装置構成:加熱炉+装置内搬送 ※加熱炉単体も対応 ■対応温度:60℃~200℃ ※温度設定は一定 ■炉室サイズ:W50~×D150~×H25~ ※それぞれ最大サイズは諸条件の検討が必要です ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
アルミ合金 装置サイズ(WxDxH) 370x210x120 mm 装置重量 約10kg 加熱プレートサイズ(WxD) 220mmx155mm 有効対象物サイズ(WxDxH) 210mmx150mm 最大到達温度 250℃ 加熱方式 カートリッジヒーター(下部加熱) 温度制御方式 P.I.D.制御方式 プレート上面内温度差 設定温度に対して±1.5%以内 最大昇温速度 25K/...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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薄板対応の除塵装置。 駆動部にマグネットギアを採用!この一台で幅広い…
<RFC-705A> ■上下両面クリーニングタイプの2連型クローンローラー ■特殊クリーンロールと櫛歯バーを巧みに配置 ■サイズ:W308×D1,185×H1,265±50mm ■重量:150kg <RF-705A> ■特殊クリーンロールとワーク搬送用コロを巧みに配置 ■薄物ワークの巻き込みを防止 ■サイズ:W398×D1,185×H1,265±50mm ■重量:170kg ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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周囲の材質の影響を受けない!ローコスト化と長距離読み取りを実現したRF…
【ラインアップ】 ■ベストセラー ・Prox NG ・Exo600 ・Exo750 など ■ラベルタグ ・IQ100 ・IQ150 ・IQ400 など ■極小シリーズ ・Fit100HT ・Fit200 ・Fit400、Fit400HT など ■特殊用途 ・Dura1500 ・Dura3000 ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長や...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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Felica/MIFARE対応。顔、指紋同時認証でハイセキュリティを実…
ca/MIFARE ■通信:TCP/IP、Wiegand IN/OUT、RS232C、RS485 ■認識速度:1sec以下 ■使用環境:温度-20℃~50℃/湿度90%以下 ■本体寸法:150mm(W)×206mm(H)×46mm(D) ■電源/電流:OUTPUT:DC24V 2.5A/INPUT:AC100V ■重量:約600g ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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