丸棒切断金型『丸棒カットI』富士機工アイデア金型

PR【動画有り】プレスで押すだけで簡単に丸棒の切断ができます。Φ2～Φ16…

プレス機での切断のため、疲れも無く、作業時間の大幅削減が可能です。 誰でも簡単に切断できるため、パートの方に丸棒の切断を任せることもできます。 16φ以上の径の切断を希望の方は『丸棒カットII』をご覧ください。 富士機工は1973年創業以来、板金加工のための、安全で効率よくだれにでも簡単に扱えるアイデア金型を多数生み出してきました。 また、世界でも類をみない独特かつ画期的な油圧プレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士機工

AIカメラシステム『Q7』(4カメラモデル)

PR警報距離設定可能！カメラの映像をリアルタイムで分析、的確に「人」の接近…

『Q7』は、独自AI高認識率で、リアルタイム映像分析が可能な AIカメラシステムです。 カメラ数は4カメラで、画角は対角170°、水平130°、垂直92°。 タッチパネル搭載で、画面表示は4分割、2分割、全画面が可能。 その他に、2カメラモデルの「Q4」や1カメラモデルの「Q5」もご用意 しております。 【特長】 ■独自AI高認識率 ■リアルタイム映像分析 ■モニター...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社INBYTE

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

フトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diff...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

ーバイド）コーティンググラファイト Max1900℃ ◆◇対応基板サイズ◇◆ ・Φ1〜8inch基板、150mm角 ◆◇使用雰囲気◇◆ ・高真空,不活性ガス(CCC) ・超高真空, O2(Gr+SiC3コート) ・還元雰囲気中(Gr+TiC3コート)...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社